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浸入式
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2010-02-26 英特尔认为浸入光刻能延伸到11纳米
英特尔的先进光刻和制造部的Yan Borodovsky表明,英特尔希望EUV或者无掩模电子束光刻能作为193纳米浸入光刻在11纳米的后补者,并声称11纳米可能发生在2015年。
2008-08-01 采用MCU的简化脉搏血氧仪集成设计方案
脉搏血氧仪是一种用于监视病人血氧饱和度的非浸入仪器,它正受益于从昂贵的分立元件解决方案转向更高集成度的设计。但是,集成意味着需要就采用哪种处理架构做出艰难抉择。
2006-08-11 “松下-瑞萨”风头正劲,“45nm工艺”进入全面整合测试
松下电器与瑞萨科技宣布,两家公司已开始对45nm SoC(系统级芯片)半导体制造技术进行全面整合测试。该工艺技术是业界第一次利用1.0以上的数值孔径(NA)和ArF(氩氟化物)浸入微影系统进行的全面
2005-02-25 尼康将于年底推出65纳米浸入光刻量产机
实现浸入光刻的量产不是一件容易的事,对于尼康公司而言,浸入式光刻虽然不是新技术(在显微镜制造方面已有应用),然而延伸到半导体光刻技术却不是那么简单,因为他是一种在运动中的技术。
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2000亿元永远收不回的投资,换来一张五年就停止发展的TD-SCDMA网,而所谓自主知识产权比例饱受争议。蛮力改写科技产业路线,失败作结。[详细]


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