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寄生参数
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共搜索到13篇文章
2015-07-01 先进纳米IC设计面临新的寄生电路提取挑战
晶圆代工工艺技术的更新换代使IC设计密度、性能和节能特性得以不断提高,但也为设计人员带来了更多挑战。FinFET晶体管等创新的新工艺特性要求大幅度提高寄生参数提取精度,以通过仿真和分析来验证实体设计的性能。本文将会介绍新的寄生电路提取挑战,并探讨工具技术是如何不断发展以满足新要求的。
2014-09-10 Vishay的新款VRPower DrMOS尺寸更小且更高效
2014 年 9 月9 日 — 日前,Vishay Intertechnology, Inc.宣布,推出采用小尺寸、散热增强型PowerPAK MLP 5mm x 5mm的31pin封装的VRPower集成DrMOS新品---SiC620。Vishay Siliconix SiC620输出电流超过60A,尺寸比前一代6mm x 6mm尺寸小30%,但效率更高出3%,最高可达95%。这些器件封装的寄生参数比离散方案小,使开关频率可以达到1.5MHz,能有效提高功率密度,降低总体方案成本。
2013-08-26 无源元件并非真的“无源”(第1部分):电容
晶体管、IC等有源器件利用电源能量对信号进行转换,而电阻、电容、电感以及连接器等无源元件则不消耗电能——或许是我们的假设。由于无源元件均具有寄生参数,它们会以不可预知的方式改变信号。本文分3部分,这里为第1部分,讨论寄生电容的影响。
2013-06-26 (多图) 用于精确集总元件滤波器仿真的Q因数建模
在仿真电路结构时,重要的是能够解决元件的寄生参数或非理想特性。品质因数等可以利用简单公式在一个有限频带内近似得到。一些电路仿真器可以对不同的元件值实现与频率有关的变量或公式。由于实现的频率相关公式可以解决元件的非理想行为,因此能使仿真结果更加精确和可靠。
2012-11-26 (多图) 使用Eye Doctor II工具分析解决测试着色难题
在信号完整性测试中,由于探测点受限引入的传输线延迟,及芯片的寄生参数,会导致测试波形在边沿上有台阶或回沟。这种因测试引入的这种差异叫做测试着色,测试着色引入的信号质量问题一般不用解决,但如何分辨测试着色是一个难题。
2011-09-14 (多图) 开关电源传导EMI预测方法研究
针对开关电源设计阶段应考虑的EMC问题,介绍了PCB及其结构寄生参数提取和频域仿真的方法,在开关电源设计阶段对其传导EMI进行预测,定位开关电源传导EMI传播路径的影响因素,在此基础上给出开关电源PCB及其结构设计的基本原则。对开关电源EMI预测过程中需要注意的问题以及降低开关电源传导EMI的方法策略进行了分析和总结。
2009-07-09 (多图) 利用Cadence设计COMS低噪声放大器
结合一个2.4 GHz CMOS低噪声放大器(LNA)电路,介绍如何利用Cadence软件系列中的IC 5.1.41完成CMOS低噪声放大器设计。首先给出CMOS低噪声放大器设计的电路参数计算方法,然后结合计算结果,利用Cadence软件进行电路的原理图仿真,并完成了电路版图设计以及后仿真。仿真结果表明,电路的输入/输出均得到较好的匹配。由于寄生参数,使得电路的噪声性能有约3 dB的降低。对利用Cadence软件完成CMOS射频集成电路设计,特别是低噪声放大器设计有较好的参考价值。
2009-03-05 (多图) 一种新型电流型移相全桥软开关变换器
本文提出了一个采用移相控制的新型电流型全桥变换器,引入辅助电路来帮助两个上管实现零电压工作,利用变换器的寄生参数(变压器的漏感)来实现两个下管零电流工作。分析了它的工作原理以及实现软开关的条件,并最终在Pspice仿真中验证了理论的正确性。
2007-11-21 开关电源电磁标准及其干扰抑制
随着电力电子器件的不断更新换代,开关电源的开关频率及开关速度不断提高,但开关的快速通断,引起电压和电流的快速变化。这些瞬变的电压和电流,通过电源线路、寄生参数和杂散的电磁场耦合,会产生大量的电磁干扰。
2007-06-21 Cadence QRC Extraction工具首发满足台积电45nm制程技术
Cadence? QRC Extraction寄生参数提取工具可用于台积电的45纳米(nm)工艺技术。设计师可以立即使用Cadence的QRC Extraction来进行快速和复杂的45nm设计。
2007-01-09 (多图) 平面变压器在开关电源中的技术优势
高功率密度是当今开关电源发展的主要趋势,要做到这一点,必须提高磁元件的功率密度平面变压器因为特殊的平面结构和绕组的紧密耦合,使得高频寄生参数大大降低,极大地改进了开关电源的工作状态,因此近年来得到了广泛的使用研究了几种不同的平面结构和绕组制作的方式,介绍了设计平面变压器的一个标准方法,从而使得设计过程变得更加简单,大大降低了设计成本。最后,比较了平面变压器和传统变压器的一些参数,并给出了设计方针。
2006-08-31 东芝65纳米设计流程采用Cadence QRC EXTRACTION
Cadence设计系统公司宣布东芝已采用Cadence QRC Extraction,用于其最先进的65纳米设计流程。Cadence QRCExtraction为下一代工艺节点提供硅精确的寄生参数提取,包括基于敏感性和化学机械抛光(CMP)模型的提取。
2004-07-20 中芯国际0.18μm混合工艺采用Mentor Graphics的TDK与Design Flow
Mentor Graphics公司与中芯国际发布SMIC 0.18μm Mixed-Signal工艺技术的TDK。这套源码公开的设计组件,使用Mentor Graphics 模拟/混合信号(AMS) 集成电路设计流程,使集成电路设计公司可以快速建立他们的使用SMIC 0.18μm工艺技术的全方位设计环境,包括原理图输入,仿真,版图设计,验证与寄生参数提取等一系列工具。
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