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2011-12-07 应用材料公司推出首款全自动SEM缺陷评测系统:Applied SEMVision G5
近日,应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统,延续了其在SEM 缺陷评测技术领域的领导地位。该系统是首款使芯片制造商在无需人工干预下自动成像和分析生产环境中制约芯片成品率的20纳米级别缺陷的设备。以1纳米的像素尺寸识别并成像相应缺陷的独特能力使SEMVision G5系统能够帮助逻辑芯片和存储器客户提高制造效率,比以往任何时候都更快更准地找出导致缺陷的根本原因。
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