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翊杰科技与和舰科技合作开发0.18um设计流程

2005年05月30日 ?? 收藏0
翊杰科技IC设计服务公司今日宣布与中国苏州和舰晶圆厂合作,以中国市场为主,共同发展出深次微米的0.18um设计流程模板。藉此合作案,和舰再次肯定翊杰科技在深次微米的设计技术及服务能力,并在ASIC设计上达到符合世界水平的规格。
  翊杰科技一直为许多系统与IC设计公司提供高层次的IC代工服务,并努力拓展其服务至世界各地。翊杰科技成立于1999年,且为台湾、中国、北美等其它客户成功的产生(taped-out)超过200种以上的IC。其总部设立于台湾新竹,并在台北、硅谷设立分部,其它等地如上海、汉城、新加坡、多伦多、印度和深圳皆有代表处。
  此次0.18um的流程设计是由双方的设计团队共同完成的。对于一些没有生产经验的IC设计公司来说,这些设计模板可成为他们最好的参考工具,并能帮助他们在最短的时间内完成设计工作。第一阶段的合作任务着重在次微米设计上所产生的Timing Closure 和 Power Integrity 的问题。双方的团队从不同的EDA供货商处,挑选出一系列的设计辅助工具,同时开发出一系列的设计制程,并在每一个阶段中做验证,最终建立出GDS档案。此外,GDS档案经由苏州

和舰加工,产生完全封装后的IC。这些IC经由双方团队共同测试后所产生的测试报告,可协助苏州和舰在未来提升或改进制程时有很大的帮助。"我们的设计流程模板为独一无二的混合设计,从不同的EDA供货商当中挑选最优质的辅助工具,同时亦提供整套已验证过的设计模板与我们的合作伙伴一起分享!" 翊杰科技CAD部门的处长林圣凯说。
  "翊杰科技的设计服务团队对深次微米的设计要求有全面性的了解,并对 Synopsys、Mentor和 Cadence SOC Encounter 设计工具具有丰富的经验,与一个以客户至上为目标的服务团队合作对我们来说是一次相当愉快的经验。"和舰科技设计经理詹建峰表示。 "翊杰科技广大的销售网络,以及先进的研发能力,将使得翊杰未来在全世界展现其不可预知的潜能。"
  "半导体制程技术上的加速演进,使IC设计公司在产品竞争的时效上更富有挑战性!" 翊杰科技总经理苏进成说,"本公司以多年累积的IC设计与代工经验所提供的silicon proven设计流程,可帮助合作伙伴很快的达到高难度的深次微米设计领域。非常感谢和舰科技提供这个机会让我们能够拓展我们的设计服务至广大的中国市场。"
  翊杰科技所提供的IC设计与代工服务与IC设计公司会是最好的结合。借着各公司的专业技术为基础达到截长补短的效果,在最短的时间内将IC设计公司的产品推入市场。翊杰科技为客户提供从RTL到GDS之具有弹性的设计服务,多选择性的IP,和完整的IC设计制造 (manufacturing) 服务。
  www.hjtc.com.cn


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