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Altium荣获EDN China 2009年度创新奖

EDN China?? 2009年11月20日 ?? 收藏0

  日前,Altium宣布其产品Altium Designer Winter 09荣获《电子设计技术》(EDN China)杂志2009年度创新奖,该产品获得开发工具与软件类别的最佳产品奖。这已经是Altium连续两年获得这一业界著名奖项。

  EDN创新奖评选活动源自美国硅谷,19年来,已经成为美国微电子领域的标志性奖项。2005年至今,《电子设计技术》(EDN China)杂志已在国内连续举办了四届创新奖评选活动,历届赛事得到了中国工程师群体的热烈响应与积极参与,参评产品在数量和水平上一届高过一届。

  2009年,第五届EDN China创新奖再度揭幕,旨在增进中国电子设计界对全球前沿产品和技术的了解,增强中国电子设计工程师的创新意识,同时推动中国电子设计行业的快速成长与长足发展。

  EDN China 主编陆楠先生表示:“Altium的产品之所以能够再次在众多竞争者中脱颖而出,获得2009年度的创新大奖,是其产品能够不断推陈出新,不断创造价值,敢于迎接市场挑战的最终体现。在过去的一年中,包括Altium在内的多家业界领先企业,在中国取得了骄人的业绩,为市场注入了巨大活力,我们因此而为中国电子市场的发展表示由衷的欣慰,也由此看到了其发展的广阔前景。”

  “很荣幸,我们能够在时隔一年之后,再次获此殊荣,这是Altium研发工程师们不断创新并不断实现超越的结果,也再次印证了整个行业对Altium产品的肯定以及信任。”Altium大中国区总经理曹建静表示。?

  “目前,尽管全球经济危机的影响依然存在,但令我们欣慰的是,中国市场经济发展的良性态势为电子行业的前进注入了强大的推动力。Altium将借助这一优势加强其在中国市场上的开拓与创新,提高产品竞争实力,我们坚信只有高质量、高附加值的服务才能赢得业界信任,只有高性能的创新产品才能够更好地服务于中国客户。”

  Altium 坚持每六个月推出一次Altium Designer的重要更新版本,而其他升级和服务包也会贯穿在重要更新之间推出。这让工程师能够持续获得最新的电子设计技术进展。

  一个例证是,最新版本Altium Designer中包含了在详细的客户违规操作示意图方面的广泛应用。Altium Designer的大部分设计规则可对违规操作出现的位置及其原因进行显示,并展示由用户定义的限制值。从而为用户提供一个对其违规操作的直观解释和清晰示意,而此示意信息将仅仅出现在该操作发生的层级部位。对于设计者来说,这将是一个更加直观简洁的方式,它能够在避免颠覆设计作品本身的情况下,对违规操作及当前的必要信息进行显示。

  随着软件开发技术的提高,发展呈现出向更高级、更抽象的软件开发语言和工具方向发展的趋势——从机械代码,到汇编语言,再到程序语言以及面向对象的语言。最新版本的Altium Designer 还可支持使用C++进行软件开发,并保证完整的程序编辑和调整能力。设计人员可以利用层级、对象、模板、过载运行及功能来探索可以通过网络及其它资源获得的软件IP。


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