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半导体清洗技术研讨会成功举行

2004年09月07日 ?? 收藏0
8月31日,上海浦东龙东商务酒店,由《EM China电子制造》和《Semiconductor International半导体国际》中文版组织的半导体清洗技术研讨会吸引了156名工程师、教授与技术经理汇集一堂,与来自中芯国际、SEZ、Applied Materials、Mykrolis、March Plasma Systems和FSI的技术专家共同探讨半导体清洗相关技术。技术专家的精彩演讲以及与听众的问答让会场成为了技术交流与互动的世界。
  应用材料(Applied Materials)公司的陈翰文博士关于Oasis清洗技术的介绍让中国工程师第一次了解到了Applied Materials的单晶圆清洗产品与技术,而其可同时双面清洗的独特技术无疑引起了观众的兴趣;SEZ的Lucy Chen关于刻蚀后有机残余物清洗的解决方案介绍引来了长达半小时的问答,作为单晶圆清洗技术的主导厂商之一,SEZ的解决方案的每一个细节都成为了工程师的关注点;Mykrolis的郭敏关于高纯水处理技术的演讲让我们看到了微观水世界,而清除杂质的过程也有如此多的学问;March Plasma Systems公司

的Jack Zhao博士在等离子领域已拥有10年的经验,他关于Plasma的从基础知识到应用的演讲让我们上了一堂关于等离子的讲座,而在座的来自半导体封测厂工程师不间断的问题也反应了人们对等离子清洗技术的关心;FSI公司的Charles Lin博士对于FSI独到的Batch Spray技术的介绍让我们看到了另一种具有高清洗效率解决方案;中芯国际的Victor Luo关于DRAM的背面蚀刻方案也值得国内同行的参考。
  从上午9点持续到下午5点的研讨会无疑给工程师不少的技术收获,由SEZ捐赠的Nokia手机和FSI捐赠的MP3、和优盘分别被来自中芯国际、华虹NEC、沈阳芯源和江苏长电的13名工程师和技术经理幸运的获得。


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半导体? 清洗技术? 研讨会?

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