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EDN China>EDN论坛>创新技术论坛专区>佳能、尼康、ASML参战?国内晶圆产业战役集结号吹响!
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佳能、尼康、ASML参战?国内晶圆产业战役集结号吹响!

发布时间:2016-6-21 下午2:05

作者: 芯易网

等级: 新新人类

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“预计在未来的5年内,国内将有超过10家以上的晶圆厂扩产。”有业内人士透露,对于老牌的晶圆代工企业—台积电,国内晶圆厂客户则采取紧盯的设备采购战术策略。
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据悉,国内客户计划采购台积电先进制程产线,如引进其新世代7/10纳米制程设备,推出类似台积电的高良率、快交期的优质服务(TSMC Like),以率先抢占市场份额。而台积电的旧世代设备,也是国内客户争取的对象。
该人士强调,这样战术策略,确保了国内客户在引起台积电新世代设备失败后,也能争取到旧世代设备的订单。
台积电新世代7/10纳米制程备受瞩目
鉴于国内半导体供应链市场过于依赖台积电,所以TSMC Like(台积电高良率、快交期的优质服务)以及扩展至设备采购、材料、设计服务和IP等领域,自然成为客户争相购入的对象。如果国内客户(设备供应商)能抢下台积电新世代7/10纳米制程订单,将有助于争取到更多设备采购客户的订单,未来的业绩报表也是相当可观的。
台积电掌门人张忠谋董事长表示,2016年下半年的半导体市场值得期待,目前对于7/10纳米线程的研发和装机也在有条不紊地进行中。对于颇受瞩目的7/10纳米线程,张董事长则透露,其先进程度超乎预期。与此同时,台积电也开始对晶圆厂生产自动化进行布局。
佳能、尼康、ASML参战
相对于台积电的一枝独秀,其他晶圆设备厂商也在暗地里摩拳擦掌,其中就有佳能(canon)的纳米压印(NIL)技术、尼康(Nikon)的i-Line与KrF等二种曝光设备以及艾斯摩尔(ASML)的12寸晶圆与双重曝光(Twinscan)设备。
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佳能、尼康、艾斯摩尔ASML参战的背景除了台积电的一路领先之外,还有自身设备技术的落后。要知道,自1980年以来,尼康推出的曝光装置连续多年占领80%以上的市场份额(2004年ASML的双重曝光设备慢慢缩短竞争差距);而佳能更是在试用ArF浸润装置技术后,专注于i-Line与KrF等二种曝光设备的旧技术上。
为了重新抢占市场,佳能和艾斯摩尔将冲洗投入到ArF浸润设备、极紫外光(EUV)技术,18寸晶圆上。尼康则改进了ArF浸润装置的18寸晶圆技术,加速纳米压印技术发展。2015年,佳能率先宣传成功掌握11纳米线路的纳米压印技术。
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而这场无硝烟的战争,才刚刚开始。

感谢芯易网供稿


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